duv/euv)光刻
光刻技术是用激光将图案等烧成技术,用于半导体或液晶面板的基板制造
被使用,marione,那个uv照射被使用的是duv:波长200nm左右的紫外线。
用密的东西能蚀刻数十nm~百数十nm左右的图形。
另外,作为下一代的有希望的技术,被称为extreme ultraviolet(简称euv)的13.5nm等
使用波长极短的“超紫外线”的光刻(也有被称为极紫外光光刻:extremeultraviolet lithography:euvl的情况)中,duv(远紫外线)光刻的
因为使用了20分之1左右波长的光线,所以可以使图案微细。
*装载这样精密电路的底座的清洗,用以往的湿式清洗是来不及的
同时使用uv光清洗。
例如,在制作lsi时,在lsi基础上制作氧化硅膜,将想要印刷在那里的形状
用光致抗蚀剂(被称为有机物。起到感光剂的作用。)“草稿”。
如果从该草稿上照射与氧化硅膜反应离子,则草稿不在上面
氧化硅膜被离子除去,草稿与离子不反应
未去除带有草稿的氧化硅膜部分(=图案化)。
作为该掩模残留的光致抗蚀剂主要由c和h构成
再加上氧气o2,uv洗净marione,抗蚀剂可以分解成cox和h2o除去。
像这样“除去抗蚀剂的作业”叫做灰化。
伴随着高集成化电路线宽的变窄,灰化在完成一个lsi之前
进行约30次左右的情况变多了,那样的话,灰化对设备的损伤
直接导致对lsi的损伤。因此,即使是高速作业也需要低损伤灰化方法
光灰化的需求增加了。
在有机物的污染膜等的情况下,marione紫外线,大的是湿清洗,微细的是光(uv)清洗
结合清洗方法可以---提高清洗效果。
分子单位的污垢是光,比它大的用湿法清洗。
(1)粒子(虽然只是单纯的垃圾,但是看不见的水平)>;从空气中等附着的垃圾。
多μm,0.1μm级。
(2)金属系的污染>;从人体蒸发的汗中含有的钠分子
药液类中含有的微量重金属原子等。即使是分子系,钠等也容易成为与其他物质合成物
用湿式清洗可以去除的情况很多。
(3)有机污染=碳成分>;人的头屑和污垢中含有的碳、药液中含有的微量碳分子、
---等。
(4)油脂>;人的体表、汗水、指纹等所含的油分等。
(5)自然氧化膜>;物质表面与---中的氧结合形成1~2nm的氧化膜
空气中的杂质混入而造成污染。
marione-表面处理marione-津泽机电科技由重庆津泽机电科技有限公司提供。重庆津泽机电科技有限公司坚持“以人为本”的企业理念,拥有一支高素质的员工队伍,力求提供---的产品和服务回馈社会,并欢迎广大新老客户光临惠顾,真诚合作、共创美好未来。津泽机电科技——您可---的朋友,公司地址:重庆市九龙坡区二郎街道火炬大道69号3幢501室,联系人:王慧。
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息,谢谢!
本文链接:https://tztz348249.zhaoshang100.com/zhaoshang/281631457.html
关键词: