marione-表面处理marione-津泽机电科技

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    2023-12-17

王慧
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duv/euv)光刻

光刻技术是用激光将图案等烧成技术,用于半导体或液晶面板的基板制造

被使用,marione,那个uv照射被使用的是duv:波长200nm左右的紫外线。

用密的东西能蚀刻数十nm~百数十nm左右的图形。

另外,作为下一代的有希望的技术,被称为extreme ultraviolet(简称euv)的13.5nm等

使用波长极短的“超紫外线”的光刻(也有被称为极紫外光光刻:extremeultraviolet lithography:euvl的情况)中,duv(远紫外线)光刻的

因为使用了20分之1左右波长的光线,所以可以使图案微细。

*装载这样精密电路的底座的清洗,用以往的湿式清洗是来不及的

同时使用uv光清洗。






marionetwork紫外线装置marione

例如,在制作lsi时,在lsi基础上制作氧化硅膜,将想要印刷在那里的形状

用光致抗蚀剂(被称为有机物。起到感光剂的作用。)“草稿”。

如果从该草稿上照射与氧化硅膜反应离子,则草稿不在上面

氧化硅膜被离子除去,草稿与离子不反应

未去除带有草稿的氧化硅膜部分(=图案化)。

作为该掩模残留的光致抗蚀剂主要由c和h构成

再加上氧气o2,uv洗净marione,抗蚀剂可以分解成cox和h2o除去。

像这样“除去抗蚀剂的作业”叫做灰化。

伴随着高集成化电路线宽的变窄,灰化在完成一个lsi之前

进行约30次左右的情况变多了,那样的话,灰化对设备的损伤

直接导致对lsi的损伤。因此,即使是高速作业也需要低损伤灰化方法

光灰化的需求增加了。






在有机物的污染膜等的情况下,marione紫外线,大的是湿清洗,微细的是光(uv)清洗

结合清洗方法可以---提高清洗效果。

分子单位的污垢是光,比它大的用湿法清洗。

(1)粒子(虽然只是单纯的垃圾,但是看不见的水平)>;从空气中等附着的垃圾。

多μm,0.1μm级。

(2)金属系的污染>;从人体蒸发的汗中含有的钠分子

药液类中含有的微量重金属原子等。即使是分子系,钠等也容易成为与其他物质合成物

用湿式清洗可以去除的情况很多。

(3)有机污染=碳成分>;人的头屑和污垢中含有的碳、药液中含有的微量碳分子、

---等。

(4)油脂>;人的体表、汗水、指纹等所含的油分等。

(5)自然氧化膜>;物质表面与---中的氧结合形成1~2nm的氧化膜

空气中的杂质混入而造成污染。






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