紫外线在254nm和185nm所具有能量大于大多数有机物的化学结合能,因此照射uv时可以切断有机物的结合,同时紫外线185nm由---中的氧产生臭氧(o3),当向该臭氧照射紫外线254nm时产生具有强氧化力的活性氧(=激发氧原子)。
(在该过程中,有机污浊通过uv照射分子键被切断,太阳能模拟器,“有机化合物的自由基、
激发态分子“,更能促进化学反应。)
当该活性氧与有机污浊化学反应连续进行时,后成为co2等气体而挥发除去
uv照射后的物质表面改性为具有亲水性。
另外,在被照射物表面也形成oh、coo、co、cooh等自由基,粘接剂大多为
这样的自由基增加的话粘接力会提高,所以也会产生“改质”效果。
在塑料表面照射短波长uv的情况下,15秒左右粘接强度会上升到实用值。
uv清洗=一般指光清洗,将物体表面有机污浊膜
使用uv及uv生成的臭氧去除。
即使在uv清洗前工序中进行湿式清洗的情况下,sxdn-700e太阳能模拟器,通过追加uv清洗,清洗效果也会增加
由于混入物和附着物的---减少,产品的稳定,成品率提高。
另外,通过去除形成表面难粘接层的有机污浊膜,太阳能模拟器,间接地有助于提高粘接力。
uv清洗也应用于lcd·印刷相关,通过亲水化作用---油墨的乘坐
也被应用于光致抗蚀剂显---的残留(=残留物)去除。
通常uv清洗的效果,到下一个工序为止只要2小时左右就不会达到再污染。
uv表面改性=作为主要的改性例子,直接提高固体表面的粘接力。
---的短波长uv光可以在十几秒到几分钟内对塑料表面进行改性以提高粘合力和附着力。
因为也不用底漆等溶剂,太阳电池太阳能模拟器,所以对工序数的削减、作业环境的---、作业的自动化等做出贡献。
uv表面改性的效果通常持续3周左右。
duv/euv)光刻
光刻技术是用激光将图案等烧成技术,用于半导体或液晶面板的基板制造
被使用,那个uv照射被使用的是duv:波长200nm左右的紫外线。
用密的东西能蚀刻数十nm~百数十nm左右的图形。
另外,作为下一代的有希望的技术,被称为extreme ultraviolet(简称euv)的13.5nm等
使用波长极短的“超紫外线”的光刻(也有被称为极紫外光光刻:extremeultraviolet lithography:euvl的情况)中,duv(远紫外线)光刻的
因为使用了20分之1左右波长的光线,所以可以使图案微细。
*装载这样精密电路的底座的清洗,用以往的湿式清洗是来不及的
同时使用uv光清洗。
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