miruc物镜-mfs-1(a)显微镜延边朝---自治州显微镜

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    2024-1-8

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?duv/euv)光刻??marionetwork显微镜

duv/euv)光刻

光刻技术是用激光将图案等烧成技术,用于半导体或液晶面板的基板制造

被使用,mfs-45显微镜,那个uv照射被使用的是duv:波长200nm左右的紫外线。

用密的东西能蚀刻数十nm~百数十nm左右的图形。

另外,延边朝---自治州显微镜,作为下一代的有希望的技术,被称为extreme ultraviolet(简称euv)的13.5nm等

使用波长极短的“超紫外线”的光刻(也有被称为极紫外光光刻:extremeultraviolet lithography:euvl的情况)中,mfs-1(a)显微镜,duv(远紫外线)光刻的

因为使用了20分之1左右波长的光线,ms-1(a)显微镜,所以可以使图案微细。

*装载这样精密电路的底座的清洗,用以往的湿式清洗是来不及的

同时使用uv光清洗。






uv清洗、湿式清洗各自对象marionetwork

在有机物的污染膜等的情况下,大的是湿清洗,微细的是光(uv)清洗

结合清洗方法可以---提高清洗效果。

分子单位的污垢是光,比它大的用湿法清洗。

(1)粒子(虽然只是单纯的垃圾,但是看不见的水平)>;从空气中等附着的垃圾。

多μm,0.1μm级。

(2)金属系的污染>;从人体蒸发的汗中含有的钠分子

药液类中含有的微量重金属原子等。即使是分子系,钠等也容易成为与其他物质合成物

用湿式清洗可以去除的情况很多。

(3)有机污染=碳成分>;人的头屑和污垢中含有的碳、药液中含有的微量碳分子、

---等。

(4)油脂>;人的体表、汗水、指纹等所含的油分等。

(5)自然氧化膜>;物质表面与---中的氧结合形成1~2nm的氧化膜

空气中的杂质混入而造成污染。






滑块是标准附带的显微镜单元。

φ安装至14轴后使用。因为是小型·轻量的单元式,除了能与支架类的各种各样的组合以外,对机械和装置的组装也适合。

基本的ms系列·移动测微接眼能并用的mfs系列·变焦变倍式的zls系列被阵容。

fs系列,是通常的目镜和移动测微目镜:osm-mf能并用的类型的产品。任何机型都可以用管简单地连接到镜筒上。另外,通过使用移动测微目镜,物镜10×的规格化距离的幂函数。移动测微目镜是可选的。(ocd10×、bd2×、s管、f管附属)

zls系列产品的特点是可以通过变焦机构进行连续的放大观察。标准规格时综合倍率7×~45×(实际视场30mm~4.5mm)、可选的目镜20×使用14×~90×(实际视野15mm~2.3mm)为止的连续观察。所有动作距离均为93mm,均匀。单眼变焦显微镜小型·轻量不占空间,机械和装置的定位·设置等的用途也被广泛利用。(ocd10×、变焦镜头0.7×~4.5× 附带)






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