升华精制装置trs系列- advance理工-装置

advance理工激光热膨胀仪lix-2系列

激光热膨胀仪lix-2系列

可以检测低膨胀膜和有机膜的厚度方向，升华精制装置trs系列，以及低膨胀玻璃和金属的微小热膨胀，分辨率为1nm。

热膨胀测量方法有推杆法、光学干涉法、遥测法和电容法。

使用被认为是测量的双路迈克尔逊激光干涉测量法。

通过采用零摩擦平移镜，只需将样品的端面加工成球面即可轻松进行测量。

此外，通过使用可选的石英垫片，可以在改变温度的同时测量低膨胀薄膜所需的厚度方向。双路迈克尔逊激光干涉热膨胀仪 lix-2 是业内的商用型号。

用法

有机薄膜的厚度方向膨胀测量

低膨胀玻璃的---膨胀测量

低膨胀金属材料的控制测量

密封剂膨胀测量

各种电子元器件的精密热膨胀测量

标准膨胀计校准样品的测量

特征

平行移动型样品架可实现稳定测量

具有 1 nm 读数分辨率的超精密测量

如果使用石英样品，则可以测量厚度为 50 至 500 μm 的薄膜和薄板的厚度方向。

热机械测试仪tm-9000系列

精密平衡机构提高了零负载平衡，不仅可以对固体样品进行稳定的测量和评估，还可以对聚合物材料进行稳定的测量和评估。

此外，通过添加可选的湿度膨胀测量系统（hc-1 型），可以在 20 至 80% rh 的加湿条件下进行各种测量模式。

用法

聚合物薄膜的热膨胀、玻璃化转变和湿度膨胀的测量

半导体封装材料的控制

碳纤维的热膨胀和拉伸试验

特征

微电脑的负载控制和位移控制

多种附件，操作性

advance电弧等离子体沉积源aps-1理工

电弧等离子体沉积源aps-1，电弧等离子体法纳米粒子形成装置apd系列

产品介绍

电弧等离子体沉积源 aps-1

同时沉积不同的“目标”。

通过将这种蒸镀源添加到现有的电弧等离子体法纳米粒子形成装置apd系列或您自己的真空室中，可以同时蒸镀不同的“目标”，装置，从而可以生成具有新特性的材料。

用法

生成具有多个沉积源的化合物

添加到现有的真空室

特征

纳米粒子的尺寸比传统的湿法更均匀，纳米粒子形成装置apd系列，因此可以生产出高活性的催化剂。

纳米颗粒尺寸可选择约 1.5nm 至 6nm

通过改变气氛容易产生氧化物和氮化物

如果有相当于icf070（vg50）的法兰，测量装置tc-1200rh，则可以任意方向安装。

无需水冷设备，维护方便

电弧等离子体法纳米粒子形成装置apd系列

使用脉冲真空电弧放电的新型纳米粒子形成装置

脉冲真空电弧沉积是一种在简单过程中生成金属离子并形成超薄膜和纳米粒子的方法。

可以获得其他气相沉积方法无法获得的效果，例如薄膜平坦性和微粒形成。

用途

apd-s（基板沉积模型）

金属薄膜（磁性、等离子体、保护膜）

使用apd-p（粉末支撑型）纳米颗粒的燃料电池催化剂、尾气催化剂、光催化剂、voc分解催化剂、碳纳米管催化剂、等离子体激元

特征

通过改变电容器的电容量，纳米粒子的粒径可以在大约 1.5 nm 到 6 nm 之间自由选择。

任何导电材料（靶）都可以变成等离子体* 靶的比电阻为 0.01ωcm 或更小

通过改变气氛容易产生氧化物和氮化物

与湿法工艺相比，负载型纳米颗粒表现出更高的催化活性