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advance理工红外灯加热器rtp-6

红外灯加热器rtp-6

可以低成本进行80℃/s的高速退火。

本设备是一种红外线灯设备，toyonetsu，以抛物面反射红外线灯对4-6英寸尺寸的晶圆进行均匀加热。可以进行高速热处理，可以很容易地用作热处理工艺研究和开发的装置。个别半导体工艺的硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半导体的工艺退火是可能的。

特征

可进行高速热处理

采用水冷式金属室型冷壁结构，toyonetsu端子箱，可实现高速冷却。

真空置换后的气体流动也是可能的

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

可以连接石英防粘板以防止腔室内部受到污染（可选）

9 区输出控制可实现---的温度分布和再现性

台灯加热装置mila-5050

本装置为台灯加热装置，可对大50平方毫米的试件进行热处理。

自从 mila-5000 系列桌面灯加热器作为大 20 平方毫米样品的加热设备发布以来，许多客户一直在定期使用它。因此，我们可以在保持 50 平方毫米的热处理的同时进行热处理集加热炉、腔体、温控器于一体的紧凑型机身。

用法

光cvd基板加热等电子材料的高速加热

玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。

热循环试验

金属材料退火

涂膜耐热性评价

有机材料和树脂的加热和干燥

特征

热处理可以达到 50 平方毫米的样品尺寸。

高温度1200℃

一种桌面加热装置，集红外高速加热和冷却金像炉、加热室、温控仪于一体。

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

理工advance点---红外金像炉miro系列

qhc/vhc系列是结合了红外线金像炉和温度控制器的高速加热/冷却系统，并紧凑地配备了石英热处理室。

可根据客户需求定制。

用法

太阳能电池基板的热处理

氢气氛下热处理

用于各种材料基础研究的---退火和热处理模拟器

气淬热处理

热循环/热冲击测试

半导体材料的烧成、工艺退火条件的检查

特征

从高速加热到低速加热的多种条件设置

多步循环加热

气冷机构高速气淬

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

点---红外金像炉miro系列

聚光聚光温热处理。

它是一种紧凑型点聚光红外金像炉，具有球形反射面，toyonetsu测温热电对，通过与单室或双室组合实现---的反射效率。通过---可以将温度升高到 1800°c。

用法

温真空热处理

晶体生长测试（区熔）

小样品温加热试验

局部加热热冲击试验

热循环试验

用于热分析

用于产生的气体热解器

微重力下的实验---

特征

---型、低成本的温加热炉

通过与单室或双室组合，可以在真空或惰性气体等气氛下进行加热。

可以在加热过程中观察样品

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

红外灯消光管cas-mr59aq

材料加热后，可将样品滴下并在水淬惰性气体气氛中加热至 1800 °c

用法

钢板材料新材料研发

金属凝固过程中的成分评估

陶瓷的热冲击试验

特征

可在 10 秒内升温至 1800°c

采用红外线灯加热，产生的气体和粉尘少，清洁加热

材料加热后允许水淬