物镜镜筒-miruc-mf-90物镜镜筒

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    2024-1-9

王慧
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uv洗浄uv质改的效果物镜镜筒

uv清洗·uv改性在十几秒~几分钟的短时间内,在平滑的方面

在不使其表面粗糙而变为亲水性表面改性·清洗方法(uv表面处理)中

是活用uv光强的能源功能的技术。

uv表面处理(uv清洗·uv改性)也提高了表面粘接性

广泛用于印刷、粘接、电路基板晶片制作等。

技术主题(有链接)说明(下划线为摘要说明)

uv表面处理紫外线波长uv技术中使用的uv波长的种类/表面处理uv波长

uv表面处理光清洗/光改性/光刻u各技术的概论说明/光(uv)清洗/光(uv)改性/光刻

uv表面处理uv表面改性对具体对象的有用性

uv表面处理uv清洗?光清洗利用uv的表面清洗技术

uv表面处理清洗和光清洗湿式清洗和光清洗的区别

uv表面处理清洗对象例湿式·光清洗各自的对象

uv表面处理有机物除去的评价法关于清洗效果的测定方法

uv表面处理光清洗和亲水化原理光清洗的原理和机理

uv表面处理光清洗和uv清洗比准分子灯准分子更有效tpo的说明







marionetwork紫外线装置物镜镜筒

例如,在制作lsi时,在lsi基础上制作氧化硅膜,将想要印刷在那里的形状

用光致抗蚀剂(被称为有机物。起到感光剂的作用。)“草稿”。

如果从该草稿上照射与氧化硅膜反应离子,则草稿不在上面

氧化硅膜被离子除去,草稿与离子不反应

未去除带有草稿的氧化硅膜部分(=图案化)。

作为该掩模残留的光致抗蚀剂主要由c和h构成

再加上氧气o2,抗蚀剂可以分解成cox和h2o除去。

像这样“除去抗蚀剂的作业”叫做灰化。

伴随着高集成化电路线宽的变窄,灰化在完成一个lsi之前

进行约30次左右的情况变多了,那样的话,灰化对设备的损伤

直接导致对lsi的损伤。因此,物镜镜筒,即使是高速作业也需要低损伤灰化方法

光灰化的需求增加了。






来自低压灯185nm光被空气中的氧吸收而产生臭氧

254nm光被臭氧吸收并被活化(=氧化力高、激发状)

生成氧原子。由此切断有机物的结合,将有机物变成水和---

氧化分解·挥发。

发射172nm光的准分子灯时可以直接生成o

由准分子灯生成活性氧种仅在灯表面附近发生氧化反应

172nm波长光被氧---吸收,因此在---中照射距离变得极短

---中的有效照射距离为0~3mm,临界照射距离为8mm。

为了比较低压/准分子、两个灯而表示能量值的话

647:696(kj/mol),准分子灯的能量高约7.6%

(92.96:100以上100÷92.96),低压灯在---中的有效照射距离为0~20mm

因为临界照射距离为200mm,所以从照射距离等考虑便利性,低压灯

应用范围广(=准分子---照射至3mm),而准分子产生的172nm线的能量

理论值比185nm高约7.6%,因此在需要高能量的特殊用途中

选择“准分子灯有效”。

另外,好像有其他公司的资料显示,mf-90物镜镜筒,清洗速度比低压灯快

这在比较基准的照射距离的设定上有错误,将实验中的照射距离

与准分子=3mm、低压灯=30mm相比,“准分子---势”

用相差10倍的照射距离进行比较等,没有比较的意义*。

接触角的变化在其适应性有效距离上两者没有能力差。

倒不如说,mf-1(a)物镜镜筒,在光清洗效果中,与5mm距离低压灯、1mm距离

在(从氮室合成石英玻璃面)的准分子中,低压灯

有稍微接触角变低(=清洗效果高)的结果。

需要该比较资料(概略)的人请在环境事业部门

现在从准分子灯得到的好处是,用光清洗uv灯







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